目前制造5nm及以下更先进制程的芯片需要依靠极紫外光（EUV）光刻机◈◈◈，而埃米级制程则需要用到更先进的高数值孔径（High NA）EUV光刻机long8官方网站登录◈◈◈！◈◈◈，目前这些最先进的光刻机只有荷兰公司

　　美国和荷兰政府的禁令对中国科技产业造成了深远影响◈◈◈，这也使得中国本土的晶圆制造商难以获取先进的光刻机今日什么特马◈◈◈，先进制程的芯片制造水平目前仍停留在7nm级别龙8游戏官方网站◈◈◈。

　　高盛在报告中指出龙8游戏官方网站◈◈◈，即便中芯国际能生产出7nm制程的芯片◈◈◈，但是这些7nm芯片极有可能还是通过ASML较旧的深紫外光（DUV）光刻机来生产制造芯片制造◈◈◈，因为中国目前尚不具备制造这类先进光刻机的能力今日什么特马◈◈◈，因为这些设备的核心零组件主要来自全球供应商今日什么特马龙8游戏官方网站◈◈◈，尤其是美国和欧洲的供应商◈◈◈。

　　光刻技术是在晶圆上构建精细电路的关键◈◈◈，这也使其成为芯片制造流程中的决定性瓶颈今日什么特马◈◈◈。 目前◈◈◈，全球领先的芯片制造商如台积电正利用ASML的光刻机大规模生产3nm芯片◈◈◈，并即将量产2nm芯片今日什么特马龙8国际唯一官方网站登录◈◈◈。 而中国国产的光刻机的技术水平仍停留在相对陈旧的65nm制程今日什么特马龙8游戏官方网站◈◈◈。

　　图表显示了 ASML 从 65 纳米到 3 纳米以下的技术迁移◈◈◈，详细介绍了光刻模型和财务状况龙8游戏官方网站◈◈◈，时间线 年龙8国际◈◈◈，◈◈◈。

　　高盛的报告还引述了公开数据强调◈◈◈，ASML为了从65nm技术跃升至低于3nm的光刻能力◈◈◈，经过了二十年的时间龙8龙国际long8龙8游戏◈◈◈。◈◈◈，并投入了高达400亿美元的研发与资本支出◈◈◈。 综合考量中国当前技术水平与所需庞大投入龙8唯一官网◈◈◈，◈◈◈，以及全球供应链的复杂依赖性◈◈◈，高盛认为中国光刻机厂商在短期内赶上西方先进技术的可能性较小◈◈◈。 这无疑为中国在高端芯片领域达成自给自足的愿望今日什么特马龙8游戏官方进入◈◈◈，◈◈◈，设下了巨大的障碍今日什么特马◈◈◈。